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登録日 2022.09.29

4インチSiCエピタキシャル膜加工作業 一式 - 2022年09月29日登録(案件ID:23102074)

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入札資格
業種
履行場所

説明会日

---

資料交付日

---

資料等提出日

2022.10.14

入札日

2022.10.21 受付終了
案件公示書
案件仕様書
案件概要

<概要>   本作業は、4インチ量産試作ラインにおけるSiCパワーMOSおよびSBDデバイス試作の工程評価に必要なSiCウェハエピタキシャル膜加工である。  (3) 履行期限  2023年3月31日  (4) 履行場所  国立研究開発法人産業技術総合研究所

案件の詳細・その他資料を閉じる 6C8917C6-9F39-4600-9A61-F34A8D127718Created with sketchtool.

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